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AI 算力极限电镀方案
应对 1.6T 光模块与百亿亿级 AI 服务器的制造挑战
通孔纵横比
40:1
盲孔填孔比
1.2:1
mSAP 线宽
5/5μm
解决方案
工艺极限与应对方案
超高纵横比通孔挑战
在 40:1 的极端条件下,常规电镀药水交换效率接近零,导致孔中心无法上铜或出现空洞。
JADA 应对:强化贯孔能力 (TP%)
采用智能流场模拟系统优化液流喷射压力,配合高频脉冲电流换向技术,确保在高浓度铜离子匮乏的孔中心实现精准沉积,贯孔率 (TP) 保持稳定。
深大盲孔填充 (1.2:1)
高深度比盲孔容易在底部包封气泡,造成严重的可靠性隐患。
JADA 应对:超强力电镀添加剂协同
开发分阶段电流引导技术,结合物理超声波辅助震荡,消除盲孔底部微气泡,实现无空洞、低凹陷(Dimple < 5μm)的完美填充。
5/5μm 极精细线路
5微米线路对物理接触极其敏感,任何滚轮或摩擦都会导致报废。
JADA 应对:非接触传送系统
引入气浮/磁悬浮非接触式传送技术,确保板件在全流程中不与任何机械件直接摩擦,保障 mSAP 图形的完整性。
解决方案
设备与智能化设计
01
板件框架设计
独创的高刚性框架夹持方案,防止大尺寸超薄板在电镀槽内的摆动与翘曲,保障面铜均匀性。
02
智能化生产设计
基于 AI 视觉识别的电流分布实时调整系统,自动补偿边缘电流,实现 ±5% 以内的全板均匀性。
03
标准化设计
模块化组件标准,支持快速维护与参数同步,确保多条生产线的一致性产出。
04
数字化监控
JADA 云端实时监控系统,记录每一个孔的电镀曲线,实现 100% 的制造溯源。